LONGLITE® Liquid Photo Resist为负型、水溶性液态光阻剂，针对滚轮涂佈机台（水平式或垂直式）而设计，具有优异之解像性与密着性，适用于酸性蚀刻印刷电路板制程。
适于滚涂式设备之印刷电路板（内层无孔板）制程使用。
LR-1100V、LR-3500V。
LR-1300H、LR-3600H。
